一、产品名称概述:
医药混悬液改进型胶体磨,医药混悬液改良型胶体磨,医药混悬液胶体磨,医药悬浮液胶体磨,SGN改进型胶体磨;
二、医药混悬液的定义:
混悬液是指:
以固体颗粒分散于分散媒中,颗粒与分散媒之间有相界面,称为混悬液;
混悬液为不溶性固体药务微粒分散在液体分散媒中形成的非均相体系,可供口服、局部外用和注射;
三、优进的混悬剂应符合一定的质量要求:
1、外观粒子应细腻,分散均匀、不结块;
2、粒子的沉降速度慢,沉降容积比越大,混悬剂越稳定;
3、颗粒沉降后,经振摇易再分散,以保证均匀,分剂量准确。由于在重力作用,混悬液中微粒在静置时会发生沉降,其沉降速度遵循stokes定律。减少颗粒半径,增加分散的粘度可降低颗粒的沉降速度。在实际工作中,常用中液研磨法制备混悬液以减小固体分散相粒径,并加入助悬剂等稳定剂以增加分散介质的粘度,降低沉降速度和增加稳定性;
四、医药混悬液的研磨细化
混悬液的生产工艺中,有一个重要环节,就是对混悬液进行研磨分散细化,细化的程度决定了混悬液的品质,稳定性以及药性的发挥。采用SGN改进型胶体磨一般可将混悬液粒径细化至DN90≤5μm,并且粒径分布更窄,混悬液均匀度更高,更有效的发挥药效;
若要制得沉降缓慢的混悬液,应减少颗粒的大小,增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差;
纳米医药混悬液分散机,高剪切条件下的混悬液,高速通过工作腔定转子间隙,由于转子高速转动,物料在定转子间隙内,高速撞击、剪切等综合效应,将较大的颗粒粉碎成很小的微粒,它们的直径在0.01-2μm范围内。这个纯粹的物理过程保持产品原有的活性,与此同时,细化了颗粒,获得相对稳定的混悬液;
五、医药混悬液改良型胶体磨的特点
1、注射液改进型胶体磨是将SGN高剪切胶体磨进行进一步的改进,在原来GM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改进成两级模块,加入了一级分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改进型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成。
2、改进型胶体磨,简单的来讲就是将高剪切胶体磨和高剪切分散机,合二为一了。同时具备胶体磨和分散机的功能,并且减少了胶体磨和分散机串连后的,时间差因素。从成本上来讲,原先两台设备的价格,现在用一台研磨分散机就可以完成,姓价比更高。
3、全新的设计理念,超高设备剪切力,以及稳定的设备运行,SGN为广大企业提供优志的设备服务!
六、改进型胶体磨参数表:
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产品型号
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GMSD2000/4
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GMSD2000/5
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GMSD2000/10
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品牌
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SGN/思峻
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电机功率(kw)
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4
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11
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22
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处理量(L/H)
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400
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1500
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4000
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主轴转速(rpm)
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14000
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10500
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7300
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线速度(m/s)
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44
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分散盘直径
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55
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75
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115
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进出口尺寸
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DN25/DN15
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DN40/DN32
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DN80/DN65
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外形尺寸
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450*350*750
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624*350*1177
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930*400*1233
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与物料接触部分材质
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316L
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工作方式
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高速剪切
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速度类型
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无级变速
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变速方式
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变频变速
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产品类型
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全新
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适用物料
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乳液、混悬液、浆料等
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应用行业
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食品、化工、医药、化妆品、能源、石油等
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GMSD2000超高速研磨分散机:
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研磨分散机
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流量*
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输出
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线速度
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功率
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入口/出口连接
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类型
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l/h
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rpm
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m/s
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kW
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GMSD 2000/4
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300
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14000
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44
|
4
|
DN25/DN15
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GMSD 2000/5
|
1000
|
10500
|
44
|
11
|
DN40/DN32
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GMSD 2000/10
|
3000
|
7300
|
44
|
22
|
DN80/DN65
|
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GMSD 2000/20
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8000
|
4900
|
44
|
37
|
DN80/DN65
|
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GMSD 2000/30
|
20000
|
2850
|
44
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55
|
DN150/DN125
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MSD2000/50
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60000
|
2000
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44
|
110
|
DN200/DN150
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