高精度半自动光刻机 北京特博万德科技有限公司

能力

数值

X, Y方向运动距离，精度

+/-6mm； 
0.1微米

Z方向精度

+/-0.5微米

Theta; 精度

+/-3°；0.001°

光罩旋转

+/-15°

控制方式

软件控制，多种工艺参数可自行设定

卡盘移动控制

电子杆

光刻模式

靠近、软接、硬接和真空接触

预对准能力

X,Y方向+/-25微米；Theta 0.5°

精对准能力

小于1微米

光罩尺寸

{zd0} 14”×14”

适用的样品尺寸

50 ～ 300mm

光源选择

近紫外，中紫外和深紫外