SEF-J：绝缘刻线机
产品特点：龙门式结构，两维分离（或两维一体）；半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器；伺服电机（或直线电机）驱动；两路或四路同步输出；自动跟踪定位；自动上下料（选配）
技术参数：
型号规格：SEF-J
有效加工幅面：1.1×1.4m（或635mm×1245mm）
{zd0}刻线速度：800～1000mm/s
重复定位精度：±10μm
刻线直线度：±10μm / 1000 mm
刻线宽度：50～80μm
应用和市场：薄膜太阳电池的绝缘隔离线的刻划加工，将所有膜层一次性刻划干净，重新隔离形成独立绝缘的小块电池阵列。