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详细介绍

应用领域

RGDL系列真空气氛管式炉广泛用于高、中、低温CVD工艺,例如:碳纳米管的研制,试验用碳纤维碳化、晶体硅板镀膜、纳米氧化锌结构可控生长等等,也可用于金属材料的扩散焊接及真空或气氛保护下的热处理。

主要特点                                      

采用精炼石英管或高纯高于管作为炉膛,可拆卸的密封方式,具有良好的洁净度和真空度,耐火保温材料全部采用先进的轻质纤维制品,整机质量轻、低能耗。加热元件采用优质硅钼棒、硅碳棒或进口电阻丝;温度控制系统采用原装进口智能多段程序温度控制仪控制,具有良好的稳定性、均匀性。

技术指标

设备型号

温区个数

{zg}温度

加热区长度

炉管尺寸及材料

装机功率

RGDL(D)-2/80/44

2

1100

440mm

Φ80石英管

5kw

RGDL(Z)-1/60/30

1

1400

300 mm

Φ60刚玉管

8 kw

RGDL(G)-3/60/60

3

1650

600 mm

Φ60刚玉管

18 kw

RGDL(D)-1/50/70

1

1200

500 mm

Φ70石英管

8 kw

RGDL(Z)-2/30/60

2

1400

600 mm

Φ60高纯刚玉管

10 kw

RGDL(G)-1/50/80

1

1650

500 mm

Φ80高纯刚玉管

12 kw

备注:RGDL系列管式炉全部可以按照客户要求通入各种惰性、还原性、反应性气体,通过浮子流量计或质量流量计控制气体通入量。同时还可以通过单机机械泵或真空机组预抽真空,系统具备冷态极限真空6.67×10﹣² Pa

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